导读:
申请号 CN201610859126.3
申请日2016.09.28
公开(公告)号 CN106493108A
公开(公告)日2017.03.15
IPC分类号B08B3/02; B08B3/08; B08B3/12; B08B7/00; B24B1/04
申请(专利权)人湖北大禹汉光真空电器有限公司;
发明人王清华;周倜;
本发明提供了一种真空灭弧室的无酸清洗工艺，步骤包括：(1)采用高压水对真空灭弧室零件进行冲洗;(2)对真空灭弧室零件进行研磨抛光的同时进行清洗;(3)水洗脱水后，将真空灭弧室零件进行真空高温净化。该工艺不依赖酸进行清洗，避免了清洗后的化学制剂难以回收，污染环境的缺陷，且工艺简单，后处理方便易于工业化。
